中新網紐約9月9日消息：據科技日報報道，美國威斯康星州大學的科研小組近日宣布，他們在室溫條件下通過操縱單個原子，研制出原子級的硅記憶材料，其存儲信息的密度是目前光盤的100萬倍。這是納米存儲材料技術研究的一大進展。

　　據該小組發表在《納米技術》雜志上的研究報告稱，新的記憶材料構建在硅材料表面上。研究人員首先使金元素在硅材料表面升華，形成精確的原子軌道；然后再使硅元素升華，使其按上述原子軌道進行排列；最后，借助于掃瞄隧道顯微鏡的探針，從這些排列整齊的硅原子中間隔抽出硅原子，被抽空的部分代表“0”，余下的硅原子則代表“1”，這就形成了相當于計算機晶體管功能的原子級記憶材料。整個試驗研究在室溫條件下進行。

　　研究小組負責人赫姆薩爾教授說，在室溫條件下，一次操縱一批原子進行排列并不容易。更為重要的是，記憶材料中硅原子排列線內的間隔是一個原子大小。這保證了記憶材料的原子級水平。

　　赫姆薩爾教授說，新的硅記憶材料與目前硅存儲材料存儲功能相同，不同之處在于，前者為原子級體積，利用其制造的計算機存儲材料體積更小、密度更大。這可使未來計算機微型化，且存儲信息的功能更為強大。目前研究人員還只是在平面上進行單個原子操作研制硅記憶材料。未來可望在三維立體空間進行類似的試驗。